我们在一些技术领域方面的缺陷是比较明显的,由于早期的发展当中,我们的起步就比较晚了,所以现在想要这些方面有所提升,也许要付出更多的努力。

在这方面最让大家头疼的其实就是芯片制造领域,我国虽然有很多的一些芯片研制能力提升,但是最主要的一个缺陷就在于光刻机的研制。

但是如果仔细的来分析中国现在的发展的话,我们缺的不仅仅是光刻机,就算现在能够买进光刻机在其他方面的欠缺也还是比较明显的。

除开主要的光刻机之外在光刻胶的发展上也是我们的短板,在芯片上的一些生产材料都是我们比较难以补上的。

光刻机是大家已经非常清楚的,另一种东西就是光刻胶,光刻胶是在芯片生产过程当中,关于一些细微图形加工的关键材料。

它和早期的照相机冲洗胶卷其实是一样的道理,由于是一种有机化合物,在被紫外线曝光之后,就会产生变化,而我国关于芯片的研制是非常有突破的,所以即使有了这一技术,也还没有无法在这方面进行补助,所以想要自主生产芯片,困难还是比较大。

有很多人觉得那既然和相机胶卷的原理一样,那么可不可以利用这样的制造技艺呢?虽然说原理一样,但是在材料利用上,他的要求是更高的,如果不能找到适合的一些东西的话,它的发展也会更加困难。

由于光刻胶的分辨率远远要高于普通的胶卷,所以它是需要用显微镜才能看清楚的,这也在制造过程当中带来了更多的难题。

除开技术之外,它的生产还涉及了专利以及保护的问题,国内的公司即使知道了它的一些配方和生产工艺,也是无法完成自主生生产的,毕竟受到了专利的保护,所以这也是我们在新品建设领域难以发展的一大原因。

即使近年来我们的发展比较有优势,但是想要获得一些更好的能力成就也还是比较困难的,我们在高端制造领域难以达到标准,想有所发展就更要克服困难。

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